等離子體清洗原理：通過化學(xué)或物理作用對工件表面進行處理，實現(xiàn)分子水平的污染物去除（一般厚度為幾個～幾十個nm）。被清除的污染物可能為有機物、環(huán)氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等。對應(yīng)不同的污染物，應(yīng)采用不同的清洗工藝。按照清洗原理可以分為：物理清洗和化學(xué)清洗。

　　物理清洗：表面作用以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。我們以Ar來說明真空等離子清洗機的化學(xué)反應(yīng)。

　　例：Ar＋e-→Ar＋＋2e-Ar＋＋沾污→揮發(fā)性沾污

　　Ar＋在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動能，然后轟擊在放在負電極上的被清洗工件表面，工件表面的污染物被轟擊后，游離在腔體內(nèi)部，然后經(jīng)過真空泵抽出腔體外部。一般用于去除氧化物、環(huán)氧樹脂溢出或是微顆粒污染物。

　　化學(xué)清洗:表面作用以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗，又稱PE。

　　例1：O2＋e-→2O*＋e-O*＋有機物→CO2＋H2O

　　從反應(yīng)式可見，氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。

　　例2：H2＋e-→2H*＋e-H*＋非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O

　　從反應(yīng)式可見，氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，通常用于清潔金屬表面，在清洗過程中避免金屬氧化。

　　在真空等離子清洗機正常的清洗過程中物理清洗與化學(xué)清洗時同時存在的，可以根據(jù)具體要求選擇不同的工藝氣體。